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针对现有技术中存在问题,本发明目在于提供一种去除二氧化硅颗粒抛光液,该抛光液特点是一种抛光液经化学机械作用将衬底表面SiO2颗粒去除...
随着计算机磁头与磁盘间间隙不断减小,硬盘表面要求超光滑.制备了一种纳米SiO2抛光液,并大了镍磷敷镀硬盘基片在其中抛光厂能,Chapman MP2000 ...
供应量: 100000件 关键词: 研磨抛光液,不锈钢研磨抛光液,二氧化硅抛光液我...产品采用SiO2纳米材料,对铝合金或不锈钢材料表面能提供非常良好研磨效果,...
